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NP-SE10
i線対応の非イオン性光酸発生剤。溶剤溶解性に優れ、高い耐熱性を有する。
低モル吸光係数（高透明性）でありながら、高い酸発生率を示す。
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| CAS RN® | あり（非開示） |
|---|---|
| 分子量 | 約600 |
物性・荷姿・開発ステージ
| 外観 | 黄色粉末 |
|---|---|
| 荷姿 |
0.5kg瓶 |
| 開発ステージ | ラボ |
| サンプル | 無償サンプル：10g、有償サンプル：100g～（100g単位） |
よくある質問
- 吸収波長はどの程度でしょうか。
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i線(365nm)では、モル吸光係数で10,000 [M-1cm-1]程度、h線(405nm)で10,000 [M-1cm-1]程度、g線(436nm)で400 [M-1cm-1]程度の吸収があります。
- 各種溶剤に対する溶解性はどの程度でしょうか。
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PGMEAに対して35wt%程度、γ-ブチロラクトンに対しては30wt%程度溶解します。
- アミン化合物への耐性はどの程度でしょうか。
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ピリジン存在下でも、高い安定性を示します。
- 異なる酸種発生タイプはありますか。
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開発実績はございません。ご希望の酸種があれば、お気軽にお問合せください。
- どの程度添加すれば良いですか。
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用途、膜厚にもよりますが樹脂に対して0.5～3wt%程度添加してください。
- どの程度の膜厚が適していますか。
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ご使用の露光波長や組成物の種類によりますが、薄膜～中膜（１～５０μm）に適しています。
