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NA-CS1
i線対応の非イオン性光酸発生剤。嵩高いカンファースルホン酸を発生するため、酸の拡散性を抑えることが可能（パターンの矩形性向上など）。トリエチルアミンといった強アミンへの耐性や熱安定性に優れる。
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| CAS RN® | あり（非開示） |
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| 分子量 | 約 500 |
物性・荷姿・開発ステージ
| 外観 | 黄色粉末 |
|---|---|
| 荷姿 |
0.5kgボトル |
| 開発ステージ | ラボ |
| サンプル | 無償サンプル：10g, 有償サンプル：100g～（100g 単位） |
よくある質問
- 吸収波長はどの程度でしょうか。
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i線(365nm)では、モル吸光係数で400 [M-1cm-1]程度の吸収があります。h線(405nm)やg線(436nm)には吸収がありません。
- 各種溶剤に対する溶解性はどの程度でしょうか。
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PGMEAに対して25wt%、γ-ブチロラクトンに対しては35wt%溶解します。
- アミン化合物への耐性はどの程度でしょうか。
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ピリジンやトリエチルアミン存在下でも高い安定性を示します。
- 異なる酸種発生タイプはありますか。
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アルキルスルホン酸、アリールスルホン酸を中心に開発実績がございます。お気軽にお問い合わせください。
- どの程度添加すれば良いですか。
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用途、膜厚にもよりますが樹脂に対して0.5～3wt%程度添加してください。
- どの程度の膜厚が適していますか。
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365nmでのモル吸光係数が低く、透過性が高いため、厚膜(50μm以上)での使用に適しています。もちろん薄膜でもご使用いただけます。
